期刊文章详细信息
文献类型:期刊文章
HAN Weimin;LIU Jiao;WANG Lei;HONG Ming;ZHU Kunfeng;ZHANG Guangsheng(The 24th Research Institute of China Electronics Technology Group Corporation,Chongqing 400060,P.R.China;Analog Foundries Co.,LTD.,Chongqing 401332,P.R.China;National Laboratory of Science and Technology on Analog Integrated Circuit,Chongqing 400060,P.R.China)
机构地区:[1]中国电子科技集团公司第二十四研究所,重庆400060 [2]重庆中科渝芯电子有限公司,重庆401332 [3]模拟集成电路国家级重点实验室,重庆400060
基 金:重庆市自然科学基金面上项目(CSTB2022NSCQ-MSX0254)
年 份:2023
卷 号:53
期 号:3
起止页码:500-505
语 种:中文
收录情况:AJ、BDHX、BDHX2020、CAS、IC、JST、ZGKJHX、核心刊
摘 要:提出了一种适用于环形栅LDMOS器件的子电路宏模型。基于对环形栅LDMOS器件结构的分析,将环形栅LDMOS器件分为两个部分,一个是中间的条形栅MOS部分,使用常规的高压MOS模型;另一个是端头部分,为一个圆环形栅极MOS器件,采用了一个单独的模型。基于40 V BCD工艺的N沟道LDMOS器件进行模型提取与验证。结果表明,建立的宏模型具有较强的几何尺寸缩放功能,对于不同尺寸的器件都具有较高的拟合精度,并且模型能够兼容当前主要的商用电路仿真器Hspice和Spectre。
关 键 词:环形栅 LDMOS 宏模型 BCD工艺
分 类 号:TN386.1]
参考文献:
正在载入数据...
二级参考文献:
正在载入数据...
耦合文献:
正在载入数据...
引证文献:
正在载入数据...
二级引证文献:
正在载入数据...
同被引文献:
正在载入数据...

