文献类型：专利

专利类型：实用新型

是否失效：否

是否授权：否

申 请 号：CN201120003504.0

申 请 日：20110107

发 明 人：施林波 王晔晔

申 请 人：昆山西钛微电子科技有限公司

申请人地址：215300 江苏省苏州市昆山市开发区纵四路东侧、同丰路北侧

公 开 日：20110831

公 开 号：CN201955617U

代 理 人：盛建德

代理机构：32212 昆山四方专利事务所

语　　种：中文

摘　　要：本实用新型公开了一种双光阻墙光罩，其上对称的设有若干个双光阻墙光罩单元，所述每个双光阻墙光罩单元包括光罩单元内光阻墙、光罩单元外光阻墙和光罩单元切割道，所述光罩单元外光阻墙设于所述光罩单元内光阻墙外围，所述光罩单元切割道设于所述光罩单元内光阻墙和所述光罩单元外光阻墙之间。利用该双光阻墙光罩制备的双光阻墙可有效增加与晶圆的胶合面积，并可减少溢胶及胶不均匀导致的气泡无胶风险。

主 权 项：1.一种双光阻墙光罩，其特征在于：所述双光阻墙光罩上对称的设有若干个双光阻墙光罩单元(1)，所述每个双光阻墙光罩单元包括光罩单元内光阻墙(11)、光罩单元外光阻墙(13)和光罩单元切割道(12)，所述光罩单元外光阻墙设于所述光罩单元内光阻墙外围，所述光罩单元切割道设于所述光罩单元内光阻墙和所述光罩单元外光阻墙之间。

关 键 词：光罩单元  光阻 双光  光罩  切割  胶合 晶圆 无胶 溢胶  对称  外围  风险  

IPC专利分类号：G03F1/14(20060101);B81C1/00(20060101)