文献类型：专利

专利类型：发明专利

是否失效：否

是否授权：否

申 请 号：CN202110283904.X

申 请 日：20210317

发 明 人：熊伟 李建 袁果园 刘德蓉 汤毅 崔坤成 李泓锟 李艳秋

申 请 人：重庆科技学院

申请人地址：401331 重庆市沙坪坝区大学城东路20号

公 开 日：20210723

公 开 号：CN113150296A

代 理 人：王玉芝

代理机构：50223 重庆蕴博君晟知识产权代理事务所(普通合伙)

语　　种：中文

摘　　要：本发明提供一种基于MOFs的钴离子印迹聚合物吸附材料，先制备锆基MOFs材料UiO‑66‑(OH)<Sub>2</Sub>，再用3‑[2‑(2‑氨基乙基氨基)乙基氨基]丙基‑三甲氧基硅烷和吡啶‑2‑甲醛对其进行修饰改性聚合，然后用盐酸溶液对其进行洗脱以除去钴离子，最后得到钴离子印迹聚合物(Co(II)‑IIP)。本发明制得的Co(II)‑IIP用于含钴离子废水处理，充分结合了离子印迹材料高选择的优势与MOFs材料高吸附容量的特性，实现了从废水中高容量、高选择性的吸附钴离子。本发明制备方法简单，适合工业化生产。

主 权 项：1.一种基于MOFs的钴离子印迹聚合物吸附材料(Co(II)-IIP)，由UiO-66-(OH)₂的制备得到UiO-66-(OH)₂衍生物，再由UiO-66-(OH)₂衍生物制备得到Co(II)-IIP；其特征在于，所述UiO-66-(OH)₂的制备得到UiO-66-(OH)₂衍生物的步骤为：将3-[2-(2-氨基乙基氨基)乙基氨基]丙基-三甲氧基硅烷和吡啶-2-甲醛溶于乙醇中回流，溶液由亮黄色变为土黄色后，再向其中加入六水合硝酸钴，继续回流，溶液变为棕红色后反应结束，将UiO-66-(OH)₂分散在混合溶液中，于100～120℃下晶化12～24小时，得到UiO-66-(OH)₂衍生物；所述UiO-66-(OH)₂衍生物制备得到Co(II)-IIP的步骤为：UiO-66-(OH)₂衍生物中加入环氧氯丙烷，回流3～5小时，发生交联反应，然后冷却至室温，过滤，用盐酸洗去模版钴离子，再用去离子水将材料洗至中性，干燥后得到Co(II)-IIP。

关 键 词：钴离子 印迹聚合物 制备  离子印迹材料  三甲氧基硅烷 高吸附容量  高选择性  离子废水 吸附材料  修饰改性  盐酸溶液  乙基氨基  高容量 基氨基  丙基  含钴  吸附  洗脱  锆基  甲醛  聚合  废水

IPC专利分类号：C08G83/00(20060101); C08J9/28(20060101); B01J20/26(20060101); B01J20/30(20060101); C02F1/28(20060101); C08L87/00(20060101); C02F101/20(20060101)