文献类型：专利

专利类型：发明专利

是否失效：否

是否授权：否

申 请 号：CN202011295196.3

申 请 日：20201118

发 明 人：叶璐 张金平 王东方 郑列华 张慧卿 戚丽丽 郭晓镇

申 请 人：上海济物光电技术有限公司

申请人地址：201800 上海市嘉定区嘉定工业区绿意路2398号综合实验楼地下1层、1层

公 开 日：20210202

公 开 号：CN112304244A

代 理 人：胡美强

代理机构：31283 上海弼兴律师事务所

语　　种：中文

摘　　要：本发明公开了一种基于红外偏折术的积分腔狭缝光源装置，包括具有开口的积分腔、基板、包括多个发热电阻的发热电阻阵列和遮光板，其中，基板与积分腔相固定，基板的中心设置有出光狭缝，发热电阻阵列设置于所述基板与所述遮光板之间，遮光板遮盖发热电阻阵列但不遮盖出光狭缝，积分腔的内壁和基板上设置有涂层，发热电阻阵列用于向积分腔中辐射红外光，出光狭缝用于出射经在积分腔中经漫反射后的红外光，遮光板用于抑制背景辐射。该光源装置可以产生均匀的长波红外辐射。

主 权 项：1.一种基于红外偏折术的积分腔狭缝光源装置，其特征在于，包括具有开口的积分腔、基板、包括多个发热电阻的发热电阻阵列和遮光板，其中，所述基板覆盖于所述积分腔的开口且所述基板与所述积分腔相固定，所述基板的中心设置有出光狭缝，所述发热电阻阵列设置于所述基板与所述遮光板之间，所述遮光板遮盖所述发热电阻阵列但不遮盖所述出光狭缝，所述积分腔的内壁和所述基板上设置有用于产生漫反射的涂层，所述发热电阻阵列用于向所述积分腔中辐射红外光，所述出光狭缝用于出射经在所述积分腔中经漫反射后的红外光，所述遮光板用于抑制背景辐射。

关 键 词：积分腔  发热电阻 基板  遮光板  出光狭缝  红外光 光源装置  遮盖  长波红外辐射  背景辐射  阵列设置  中心设置  漫反射 出射  内壁  偏折 狭缝 开口  辐射  

IPC专利分类号：G01B11/24(20060101)