文献类型：专利

专利类型：发明专利

是否失效：否

是否授权：否

申 请 号：CN201610766253.9

申 请 日：20160831

发 明 人：董兴华

申 请 人：奥普镀膜技术(广州)有限公司

申请人地址：510730 广东省广州市广州经济技术开发区开发大道蓝玉四街9号5栋一楼

公 开 日：20161207

公 开 号：CN106199801A

代 理 人：刘媖

代理机构：44228 广州市南锋专利事务所有限公司

语　　种：中文

摘　　要：本发明公开了一种40G100G滤光片薄膜镀制方法，包括以下步骤：①基片预处理：对玻璃板进行研磨，形成0.55mm的玻璃基片；②清洗并烘干；③镀膜：在所述玻璃基片的单侧或两侧利用蒸发镀膜机进行蒸发镀膜，新型膜系结构为：nHLnHLnHL 2nH LnHLnHLnH L，其中，n为膜系结构的匹配系数，H为五氧化二钽介质层，L为二氧化硅介质层。由于采用上述的镀膜工艺，制成的滤光片具有以下特点：改善了产品面形度；提高了产品良率；通带矩形度性能得到提高：产品光学性能的通带矩形度性能得到提高；光入射角的敏感度性能得到提高：产品的光入射角敏感度降低，由原来的5.6 nm/°降低到现在的<4nm/°。

主 权 项：1.一种40G100G 滤光片薄膜镀制方法，其特征在于：包括以下步骤：①基片预处理：对玻璃板进行研磨，形成0.55mm的玻璃基片；②清洗并烘干：对玻璃基片放入纯水中浸泡，并使用超声波进行振荡清洗，并使用风干的方式对清洗后的玻璃基片进行干燥；③镀膜：在所述玻璃基片的单侧或两侧利用蒸发镀膜机进行蒸发镀膜，并在蒸发过程中使用离子源发出的离子来轰击膜层材料的气体分子，通过沉淀得到具有新型膜系结构的滤光片，所述的新型膜系结构为：nHLnHLnHL 2nH LnHLnHLnH L，其中，n为膜系结构的匹配系数，H为五氧化二钽介质层，L为二氧化硅介质层。

关 键 词：通带矩形度  玻璃基片  光入射角  膜系结构  滤光片 敏感度 玻璃板  二氧化硅介质层  预处理  五氧化二钽  蒸发镀膜机  产品良率  镀膜工艺 光学性能  匹配系数  蒸发镀膜  研磨  薄膜镀  介质层 烘干  镀膜 面形  清洗  

IPC专利分类号：G02B5/20(20060101);G02B1/10(20150101);C23C14/08(20060101);C23C14/10(20060101);C23C14/28(20060101)