文献类型：专利

专利类型：发明专利

是否失效：否

是否授权：否

申 请 号：CN201110033178.2

申 请 日：20110131

发 明 人：王海峰 卢长荣 陈永瑞

申 请 人：华映光电股份有限公司

申请人地址：350015 福建省福州市马尾区科技园区兴业路1号

公 开 日：20130213

公 开 号：CN102061443B

代 理 人：蔡学俊

代理机构：35100 福州元创专利商标代理有限公司

语　　种：中文

摘　　要：本发明涉及一种采用磁控溅射镀氧化锡膜的方法，其特征在于：在真空室中，通入工作气体Ar和O<Sub>2</Sub>，借由真空室内设置的阴极锡靶材和阳极基板电离出Ar<Sup>+</Sup>离子，该离子受到电场加速具有高能量后，轰击阴极锡靶材表面，将离子动量转移给锡靶材原子，锡靶材原子获得动量后逸出靶材表面，在电场作用下，与O<Sub>2</Sub>反应形成氧化锡并附着于阳极基板上成膜。采用本发明的方法，所镀膜层为单层氧化锡膜，工艺简单，成本低；而且膜层电阻10<Sup>9</Sup>Ω以上，为不导电层，不影响射频通讯；膜层附着力好，具有很好的物理性能及耐候性。

主 权 项：1.一种采用磁控溅射镀氧化锡膜的方法，其特征在于：在真空室中，通入工作气体Ar和O₂，借由真空室内设置的阴极锡靶材和阳极基板电离出Ar⁺离子，该离子受到电场加速具有高能量后，轰击阴极锡靶材表面，将离子动量转移给锡靶材原子，锡靶材原子获得动量后逸出靶材表面，在电场作用下，与O₂反应形成氧化锡并附着于阳极基板上成膜；所述的氧化锡膜的反光颜色是通过改变氧化锡膜的厚度实现；所述的阴极锡靶材是运动的，所述的阳极基板是静止的，在制备反光颜色为金黄色的氧化锡膜时，所述溅射的起始压力为7.50E-05托，溅射过程中的压力为：1.80E-03托；所述的阴极锡靶材的运行速度为18 mm/s，加于阴极锡靶材上面的电功率为0.6kW，通入的Ar气速度为：105mL /min，通入的O₂气速度为：8mL/min，经过4趟的溅射处理。

关 键 词：靶材 离子  动量 阴极  阳极基板  氧化锡膜  膜层附着力  磁控溅射  电场加速  电场作用 工作气体 物理性能  影响射频  导电层  镀膜层  耐候性  氧化锡 真空室 电离  单层  电阻  膜层  通讯  转移  

IPC专利分类号：C23C14/08(20060101); C23C14/35(20060101)