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标准详细信息

硅片表面光泽度的测试方法       

文献类型:标准

标准类型:国家标准

标 准 号:GB/T 42789-2023

标准状态:现行

发布日期:20230806

实施试行日期:20240301

起 草 人:梁兴勃 李琴 张海英 林松青 潘金平 李素青 张雪囡 由佰玲 边永智 庄智慧 沈辉辉 焦二强 韩云霄 徐志群 付明全 詹玉峰 王可胜

起草单位:浙江金瑞泓科技股份有限公司 浙江海纳半导体股份有限公司 有色金属技术经济研究院有限责任公司 天津中环领先材料技术有限公司 山东有研半导体材料有限公司 上海合晶硅材料股份有限公司 麦斯克电子材料股份有限公司 广东金湾高景太阳能科技有限公司 浙江旭盛电子有限公司 巢湖学院 金瑞泓科技(衢州)有限公司

国  别:CN

语  种:中文

摘  要:本文件描述了采用光反射法以 20°、60°或 85°几何条件测试硅片表面光泽度的方法。本文件适用于硅腐蚀片、抛光片、外延片表面光泽度的测试,不适用于表面有图形的硅片的测试。

国际标准分类号:77;77.040

参考文献:

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二级参考文献:

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耦合文献:

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引证文献:

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二级引证文献:

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同被引文献:

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