科技成果详细信息
LKJ、LDJ离子束刻蚀及薄膜沉积系统
文献类型：成果
完成单位：航天工业总公司二院23所
项目年度编号：99033846
公布年份：0
成果类别：应用技术
应用行业：工程和技术研究与试验发展
联系单位：航天工业总公司二院23所
语 种：中文
成果简介：该技术系统采用先进的宽离子源发射大面积离子束或聚集离子束制造微米级、亚微米级图形或沉积各种材料薄膜，适用于研究薄膜特性和各种离子轰击材料改性。研制各种声、光、电、磁及超导特种器件，适应现代或未来高科技应用及发展的需要，特别是材料科学、ＩＲ热成像、ＩＲ光电成像、ＩＲ制冷器、二维光学、卫星高频晶片、导弹动压气浮及激光陀螺、ＳＡＷ器件、ＶＬＳＩ高分辨率精度ＣＲ牌、光电器件、各种光栅、微波器件、超级微带电路、ＣＣＤ器件及超导ＬＳＳ、ＱＩＤ器件等。该外，离子与材料表面相互作用已开发出许多如生物移植，大幅度提高太阳能电池转换效率、聚变反应器壁离子束表面结构再造等应用领域，高科技含量高，具有极大的技术潜力。
关 键 词：薄膜沉积 离子束加工 离子束光刻 精密刻划
分 类 号：TN4]
参考文献：
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引证文献：
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同被引文献：
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