文献类型：会议

作　　者：柳翠 李国卿 王力阁 关秉羽

作者单位：大连理工大学三束材料改性国家重点实验室 大连理工大学三束材料改性国家重点实验室 大连理工大学三束材料改性国家重点实验室 沈阳北宇真空设备厂

会议文献：TFC’03全国薄膜技术学术研讨会论文摘要集

会议名称：TFC’03全国薄膜技术学术研讨会

会议日期：20030900

会议地点：中国浙江宁波

主办单位：中国真空学会薄膜专业委员会;宁波市科技局;宁波市科技园;浙江大学;清华大学;北京北仪创新真空技术有限责任公司

出版日期：20030900

学会名称：中国真空学会

语　　种：中文

摘　　要：等离子体增强磁控溅射沉积技术(PMD)是以磁控溅射为基础的新型PVD沉积技术,它将传统的磁控溅射技术与独立产生的弧光放电平面等离子体源相结合沉积硬质膜。使用的平面等离子体源是自行研制的平面等离子体源增强沉积镀膜机,通过离化产生气体离子,可实现清洁活化工件表面和增强沉积高结合力薄膜的目的。

关 键 词：等离子体增强磁控溅射沉积技术  平面等离子体源  镀膜

分 类 号：TB43]