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显像管残余气体分析及离子轰击研究
文献类型：会议
作者单位：东南大学电子工程系,南京,210096 华飞彩色显示系统有限公司电子枪厂,南京,210028
会议文献：真空科学与技术学报
会议名称：中国真空学会第六届全国会员代表大会
会议日期：20041108
会议地点：杭州
主办单位：中国真空学会
出版日期：20041108
语 种：中文
摘 要：显像管中的残余气体是影响显像管质量和寿命的重要因素,通过四极质谱残余气体分析系统,可以对显像管中的残余气体进行有效的分析,对带消气剂的真空器件,本底要考虑扣除消气剂作用的影响.在此基础上可以进行残余气体离子轰击的计算机模拟研究,并对显像管电子枪进行优化设计。
关 键 词：显像管 残余气体分析 四极质谱 离子轰击 消气剂 计算机模拟
分 类 号：TN141.3] TN107
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