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会议论文详细信息

氢钝化对GaAs/SiO2纳米颗粒镶嵌薄膜光学性质的影响       

文献类型:会议

作  者:丁瑞钦 朱慧群 赵丽特 吴桐庆

作者单位:五邑大学薄膜与纳米材料研究所,广东省,江门市,529020 华南理工大学物理科学与技术学院,广州,510641 五邑大学薄膜与纳米材料研究所,广东省,江门市,529020

会议文献:2005(第四届)中国纳米科技西安研讨会论文集

会议名称:2005(第四届)中国纳米科技西安研讨会

会议日期:20050907

会议地点:西安

主办单位:中国微米纳米技术学会;《纳米科技》编辑部

出版日期:20050907

语  种:中文

摘  要:本文利用射频共溅射方法,在溅射气氛含氢与不舍氢条件下,在石英玻璃和抛光硅片衬底上沉积GaAs/SiO2纳米颗粒镶嵌薄膜。实验结果表明,在气氛含氢条件下制备的薄膜的室温吸收光谱存在着较明显的激子肩,其荧光发射谱也有明显的增强.我们将这些现象归因于氢对GaAs纳米颗粒膜的钝化作用。

关 键 词:纳米薄膜  射频溅射 氢钝化  半导体材料

分 类 号:TB383[材料类] TN305.92]

参考文献:

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引证文献:

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同被引文献:

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