文献类型：期刊文章

作　　者：郑耀臣[1] 陈芳[2] 王慧敏[1] 任冬雪[1]

机构地区：[1]烟台大学化工系,山东烟台264005 [2]威海鲁江实业有限公司,山东威海264200

出　　处：《材料科学与工程学报》

年　　份：2007

卷　　号：25

期　　号：5

起止页码：768-771

语　　种：中文

收录情况：BDHX、BDHX2004、CAS、CSA-PROQEUST、CSCD、CSCD2011_2012、JST、RCCSE、ZGKJHX、核心刊

摘　　要：以环氧缩水甘油醚、1,6-己二酸、丙烯酸、KH-550处理的纳米SiO2(HTSi-3)为主要原料合成了光敏稀释剂(AD)。环氧丙烯酸酯(EA)、AD、光引发剂和适量助剂配合制成光固化材料,测试了其光聚合反应特征、力学性能和耐热性。结果表明,由含HTSi-3的AD改性EA体系有较快的光固化速度和较高的光固化程度(DOC)。另外,用AD对EA改性后,提高了光固化材料的拉伸强度、冲击强度及耐热性。

关 键 词：纳米SiO3  光敏稀释剂  光固化材料  纳米复合材料

分 类 号：TB332[材料类]