期刊文章详细信息
脉冲激光沉积制备铁电薄膜材料研究进展
Latest progress on preparation of ferroelectric thin films by pulsed laser deposition
文献类型：期刊文章
机构地区：[1]重庆科技学院冶金与材料工程学院,重庆401331 [2]重庆大学材料科学与工程学院,重庆400044
基 金：重庆市自然科学基金(编号CSTC2007BB4212);重庆市教育委员会科学技术研究项目(编号KJ071401)
年 份：2008
卷 号：29
期 号：4
起止页码：5-6
语 种：中文
收录情况：BDHX、BDHX2004、CAS、CSCD、CSCD2011_2012、JST、ZGKJHX、核心刊
摘 要：铁电薄膜是一类重要的功能材料,是近年来高新技术研究的前沿和热点之一。脉冲激光沉积(PLD)是制备铁电薄膜的一种重要方法。综述了脉冲激光沉积制备铁电薄膜的历史、工艺参数、特点和采用此方法制备出的某些材料的铁电性能。
关 键 词：薄膜 脉冲激光沉积 铁电 制备
分 类 号：TB381[材料类]
参考文献：
正在载入数据...
二级参考文献：
正在载入数据...
耦合文献：
正在载入数据...
引证文献：
正在载入数据...
二级引证文献：
正在载入数据...
同被引文献：
正在载入数据...
