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期刊文章详细信息

化学镀镍浸金和化学镀镍镀钯浸金表面处理工艺概述及发展趋势    

Current status and development prospect of ENIG and ENEPIG

  

文献类型:期刊文章

作  者:谢梦[1] 张庶[1] 向勇[1] 徐玉珊[1] 徐景浩[2] 张宣东[2] 何波[2]

机构地区:[1]电子科技大学能源科学与工程学院,电子薄膜与集成器件国家重点实验室,四川成都611731 [2]珠海元盛电子科技股份有限公司,广东珠海519060

出  处:《印制电路信息》

年  份:2013

卷  号:21

期  号:S1

起止页码:185-188

语  种:中文

收录情况:普通刊

摘  要:当今电子信息产品便携小巧、功能多样的发展趋势,推动了其所需PCB产品向轻薄、信号传送速度更快的方向发展,这对PCB表面处理工艺的稳定性、可靠性提出了新的挑战。另一方面,欧盟在2003年制定的RoHS、WEEE等规范都旨在消除电子产品中铅、汞等有害的物质,推动了PCB表面处理技术向绿色无铅化方向发展。化学镀镍浸金(简称ENIG)和在其基础上发展的化学镀镍镀钯浸金(简称ENEPIG)表面处理技术可以适应PCB精细线路多类型元件的无铅焊接装配要求。上述两种表面处理技术克服了由无铅工艺带来的诸多问题,但其自身也面临如何进一步降低成本和技术难度,提高工艺可靠性等一系列问题。

关 键 词:表面处理 化学镀镍/浸金  化学镀镍/化镀钯/沉金  焊接可靠性  焊盘黑化  

分 类 号:TQ153.1]

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同被引文献:

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