文献类型：期刊文章

作　　者：杭凌侠[1] 徐均琪[1] 李建超[1]

机构地区：[1]西安工业学院陕西省薄膜技术与光学检测重点实验室,陕西西安710032

出　　处：《武汉大学学报（理学版）》

基　　金：国家总装备部基金资助项目(编辑:略);陕西省教育厅基金资助项目(04JK196)

年　　份：2005

卷　　号：51

期　　号：5

起止页码：574-578

语　　种：中文

收录情况：AJ、BDHX、BDHX2004、CAS、CSA、CSA-PROQEUST、CSCD、CSCD2011_2012、INSPEC、JST、MR、RCCSE、SCOPUS、ZGKJHX、ZMATH、ZR、核心刊

摘　　要：采用椭偏法测量类金刚石(DLC)薄膜的光学常数,分析了DLC薄膜折射率分布情况,提出了DLC薄膜折射率呈渐变分布的概念,建立了采用椭偏法进行DLC薄膜光学常数测量的多层物理模型,分析讨论了实验方法的可行性和测量结果的可靠性.实验结果表明:采用该模型进行DLC薄膜光学常数的测量,使拟合误差(MSE)从31.71下降到1.125,提高了测量精度.

关 键 词：类金刚石薄膜 折射率 测量  模型  

分 类 号：O484.5]