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期刊文章详细信息

离子注入剂量的均匀性检测和校正    

Control and Correct Uniformity of Implanting Dose

  

文献类型:期刊文章

作  者:王迪平[1] 伍三忠[1] 孙雪平[1] 孙勇[1] 王玮琪[1]

机构地区:[1]北京中科信电子装备有限公司,北京100036

出  处:《微纳电子技术》

年  份:2005

卷  号:42

期  号:10

起止页码:484-486

语  种:中文

收录情况:AJ、CAS、CSA、CSA-PROQEUST、INSPEC、RCCSE、ZGKJHX、普通刊

摘  要:介绍了离子注入机中注入剂量的均匀性检测和校正,着重阐述了均匀性的检测原理、均匀性计算公式、均匀性检测和校正流程及算法。

关 键 词:离子注入机 注入剂量  均匀性

分 类 号:TN405.3]

参考文献:

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同被引文献:

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