期刊文章详细信息
a-Si TFT-LCD制造工艺中的ITO返修工艺研究
The Techniques of the ITO Rework in the a-Si TFT-LCD Producing Processes
文献类型：期刊文章
机构地区：[1]中国科学院长春光学精密机械与物理研究所,吉林长春130021 [2]吉林北方彩晶数码电子有限公司,吉林长春130033
年 份：2006
期 号：8
起止页码：24-28
语 种：中文
收录情况：普通刊
摘 要：列举了不同的a-SiTFT-LCD制造工艺中的ITO返修工艺,详细分析了在五次光刻工艺中的电化学腐蚀问题的反应机理,并对各种返修工艺的优点和缺点进行了简要地说明。
关 键 词：A-SI TFT-LCD制造工艺 电化学腐蚀 反应机理 氧化锡铟 返修工艺
分 类 号：TN141.9]
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