期刊文章详细信息
薄膜淀积过程中的电荷转移
Charge Transfer during Film Deposition
文献类型：期刊文章
机构地区：[1]复旦大学真空物理实验室
年 份：1996
卷 号：33
期 号：4
起止页码：18-22
语 种：中文
收录情况：BDHX、BDHX1992、CAS、ZGKJHX、核心刊
摘 要：本文介绍了一种用满足一定条件的俄歇谱线的峰－峰幅度值来研究局域电子态密度的方法。并用此方法研究了成膜原子与衬底原子间的电荷交换行为。结果表明当Ｃｕ（Ｎｉ）淀积到衬底Ｎｉ（Ｃｕ）的初期阶段，Ｎｉ的部分价带电子转移到Ｃｕ中。同样结果也发生在Ｃｕ淀积到Ｍｏ衬底上的情况。本研究表明，薄膜的一些宏观性质（如膜层和衬底的粘附）可以和微观的现象相联系。
关 键 词：俄歇信号 电荷转移 薄膜 淀积
分 类 号：O484]
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