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期刊文章详细信息

覆铜箔板耐离子迁移性的研究    

  

文献类型:期刊文章

作  者:祝大同[1]

机构地区:[1]北京绝缘材料厂,100054

出  处:《绝缘材料通讯》

年  份:1997

期  号:1

起止页码:16-21

语  种:中文

收录情况:普通刊

摘  要:随着印制电路板的密集布线、线路狭间隔、小孔距的设计与制造技术的发展,在保证其基材的绝缘可靠性方面,覆铜箔板耐离子迁移问题,被越来越看作为一个突出重要的研究课题。本文综述了日本近几年来,在此方面,对离子迁移的发生特性、反应机理、影响因素以及提高覆铜箔板耐离子迁移性等方面的研究和进展。

关 键 词:覆铜箔板 耐离子迁移性  印刷电路板

分 类 号:TM215.601[材料类] TN43]

参考文献:

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引证文献:

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同被引文献:

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