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ICP-AES法测定高纯二氧化锆中痕量杂质
Determination of Trace Impuritise in High-Purity Zirconium Oxide by ICP-AES
文献类型：期刊文章
机构地区：[1]广东工业大学分析测试中心,广州市东风东路729号510090
年 份：1997
卷 号：14
期 号：3
起止页码：88-89
语 种：中文
收录情况：CAS、CSA、CSA-PROQEUST、CSCD、CSCD2011_2012、RSC、普通刊
摘 要：介绍了高纯二氧化锆中痕量杂质元素Fe、Na、Si、Ti的ICP－AES测定方法。样品以浓H2SO4及（NH4）2SO4溶解，采用空白背景校正法消除基体Zr的光谱干扰，以基体匹配法补偿基体效应。各元素平均回收率为95％—106％，相对标准偏差为1．3％—3．0％。
关 键 词：ICP-AES 二氧化锆 杂质
分 类 号：O614.412] O657.3[化学类]
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