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期刊文章详细信息

薄层电阻测试Mapping技术  ( EI收录)  

Mapping Technigue for Measurement of Sheet Resistance Distribution

  

文献类型:期刊文章

作  者:孟庆浩[1] 孙新宇[1] 孙以材[1]

机构地区:[1]河北工业大学电气工程系,天津300130

出  处:《Journal of Semiconductors》

基  金:国家自然科学基金!69272001;天津市重大成果

年  份:1997

卷  号:18

期  号:9

起止页码:701-705

语  种:中文

收录情况:AJ、BDHX、BDHX1996、CAS、CSA、CSA-PROQEUST、CSCD、CSCD2011_2012、EBSCO、EI、IC、INSPEC、JST、RSC、SCOPUS、WOS、ZGKJHX、核心刊

摘  要:利用改进的范德堡法微区薄层电阻测试探针技术对n-Si片上的硼扩散图形进行薄层电阻的测量,并用发度表示其分布,可得到薄层电阻的不均匀度及平均值.这种所谓Mapping技术更有利于评价材料质量.

关 键 词:薄层电阻测试  集成电路 Mapping技术  

分 类 号:TN407]

参考文献:

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耦合文献:

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引证文献:

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同被引文献:

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