期刊文章详细信息
脉冲偏压对矩形平面大弧源离子镀TiN膜层性能的影响 ( EI收录)
Influence of pulse bias on surface properties of TiN films fabricated by arc ion plating with large rectangle targets
文献类型:期刊文章
机构地区:[1]哈尔滨工业大学材料学院现代焊接生产技术国家重点实验室,哈尔滨150001 [2]沈阳北宇真空设备厂,沈阳110045 [3]哈尔滨第一工具有限公司,哈尔滨150020
基 金:国家自然科学基金10575025资助项目~~
年 份:2008
卷 号:22
期 号:4
起止页码:399-404
语 种:中文
收录情况:BDHX、BDHX2004、CAS、CSA-PROQEUST、CSCD、CSCD2011_2012、EI(收录号:20084011622961)、IC、JST、RCCSE、SCOPUS、ZGKJHX、核心刊
摘 要:采用矩形平面大弧源离子镀技术在201奥氏体不锈钢基体表面制备TiN硬质薄膜,研究了脉冲偏压对TiN膜层的表面形貌、相结构、硬度和耐磨性能的影响.结果表明,随着脉冲偏压的增大,薄膜中大颗粒的数目先增加后减少,这是大颗粒受到离子拖曳力和电场力双重作用的结果.存在一个最佳的脉冲偏压,使得制备出的TiN膜层具有较高的I_(111)/I_(200)比例和较高的耐磨性.脉冲偏压为-300 V时制备的TiN膜层具有最好的综合性能.
关 键 词:无机非金属材料 离子镀 矩形靶 脉冲偏压 氮化钛 耐磨性
分 类 号:TB321[材料类]
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