文献类型：期刊文章

作　　者：訾玉宝[1] 焦兴利[1] 王海峰[1] 刘亲壮[1] 殷志珍[1] 张福恒[1] 黄振[1] 吴文彬[1]

机构地区：[1]合肥微尺度物质科学国家实验室(筹),中国科学技术大学,合肥230026

出　　处：《低温物理学报》

年　　份：2009

卷　　号：31

期　　号：4

起止页码：280-285

语　　种：中文

收录情况：BDHX、BDHX2008、CAS、CSCD、CSCD2011_2012、INSPEC、JST、ZGKJHX、核心刊

摘　　要：本文利用脉冲激光沉积技术在(LaAlO3)0.3(Sr2AlTaO6)0.7(001)衬底上生长了BiFe1-xMnxO3(x=0～5%)外延薄膜,研究了Mn掺杂对BiFeO3(BFO)薄膜结构、铁电特性和漏电流的影响.XRD和SEM结果表明薄膜具有良好的结晶质量.漏电流测量显示Mn掺杂有效地减小了BFO薄膜的漏电流密度,因而在室温下5%Mn掺杂的BFO薄膜能够获得饱和的电滞回线.XPS分析证明,Mn掺杂改善BFO薄膜性能的可能原因在于其极大地减少了BFO薄膜中的Fe2+离子.

关 键 词：铁酸铋 多铁  铁电 漏电流密度  锰掺杂 脉冲激光沉积  

分 类 号：O484.42]