文献类型：期刊文章

作　　者：庞恩敬[1] 朱颖[1] 李芬[1] 李刘合[1] 卢求元[2] 朱剑豪[2]

机构地区：[1]北京航空航天大学,机械工程及自动化学院,材料加工与控制系,北京100191 [2]香港城市大学,物理及材料科学系,中国香港

出　　处：《核技术》

基　　金：国家自然科学基金(10775013,11075012);教育部新世纪优秀人才支持计划;“中央高校基本科研业务费”专项资金(YWF-10-01-A07)资助

年　　份：2010

卷　　号：33

期　　号：12

起止页码：908-912

语　　种：中文

收录情况：BDHX、BDHX2008、CAS、CSCD、CSCD2011_2012、IC、INSPEC、JST、RCCSE、RSC、SCOPUS、ZGKJHX、核心刊

摘　　要：磁场分布对磁控溅射稳定性、离化率、靶材利用率及成膜质量都有重要影响,合理分布可使靶材附近等离子体分布均匀,不同位置溅射速率差减小,靶材刻蚀范围增大,靶材寿命延长,溅射过程稳定性提高。本文针对六靶复合表面改性设备,用有限元法对磁场进行模拟,得到较理想的磁场分布,为优化设计提供理论依据。

关 键 词：磁场 多靶  有限元模拟

分 类 号：TB79]