文献类型：期刊文章

作　　者：秦尤敏[1,2] 吕晓丹[1] 赵成利[1] 宁建平[1,2] 贺平逆[1,3] A.Bogaerts[3] 苟富均[4,5]

机构地区：[1]贵州大学等离子体与材料表面作用研究所,贵阳550025 [2]贵州大学材料与冶金学院,贵阳550003 [3]比利时安特卫普大学化学系PLASMANT课题组 [4]辐射物理及技术教育部重点实验室,成都610064 [5]荷兰皇家科学院等离子体所

出　　处：《真空科学与技术学报》

基　　金：国际热核聚变实验堆(ITER)计划专项(2009GB104006);贵州省优秀青年科技人才培养计划(700968101)

年　　份：2011

卷　　号：31

期　　号：2

起止页码：138-143

语　　种：中文

收录情况：BDHX、BDHX2008、CAS、CSCD、CSCD_E2011_2012、EI(收录号：20111913966384)、JST、RSC、SCOPUS、ZGKJHX、核心刊

摘　　要：本文使用分子动力学方法模拟低能CH与碳氢薄膜的相互作用,以探讨在核聚变过程中CH的再沉积行为及对面向等离子体材料性质变化的影响。选择的入射能量分别为0.3,1,5,10 eV。模拟结果表明随着入射能量的增加C原子与H原子的吸附率增加,且在入射能量大于CH离解能的情况下,同一能量下H原子的吸附率小于C原子的吸附率。随着入射能量的增加,薄膜的厚度增加,薄膜中含有Csp2的范围变宽,并且表面逐渐转变为Csp2表面。薄膜中的C主要以Csp3形式存在,其次是Csp2,几乎不含Csp1。通过统计薄膜中的CHx（x为1~4）发现CH占优势,其次是CH2,而CH4的量非常少。

关 键 词：分子动力学 碳氢薄膜  再沉积  吸附率

分 类 号：TL62]