期刊文章详细信息
文献类型:期刊文章
机构地区:[1]电子科技大学微电子与固体电子学院,四川成都610054 [2]珠海元盛电子科技股份有限公司,广东珠海519060
年 份:2011
卷 号:19
期 号:4
起止页码:62-66
语 种:中文
收录情况:普通刊
摘 要:紫外光(UV)激光因波长短、能量大、加工精度高等优点,被越来越多地应用到PCB微孔制作工艺中。文章研究了UV激光加工φ200μm的盲孔,通过正交试验分析了激光功率、加工速度、激光频率和Z轴高度等各因素与钻孔深度之间的关系,且获得了UV激光制作一阶与二阶盲孔的最佳工艺参数和方法。研究结果表明,钻孔深度随着激光功率和加工速度的增大而增大,而激光频率的增加使钻孔深度减小。
关 键 词:紫外光激光 印制电路板 正交试验 盲孔
分 类 号:TN41]
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