文献类型：期刊文章

作　　者：赵成利[1,2] 秦尤敏[1] 吕晓丹[1] 宁建平[1] 贺平逆[1] 苟富均[3,4]

机构地区：[1]贵州大学等离子体与材料表面作用研究所,贵阳550025 [2]贵州大学理学院,贵阳550025 [3]辐射物理及技术教育部重点实验室,成都610064 [4]荷兰皇家科学院等离子体所

出　　处：《真空科学与技术学报》

基　　金：国际热核聚变实验堆(ITER)计划专项(2009GB104006);贵州省优秀青年科技人才培养计划(700968101)资助的课题

年　　份：2011

卷　　号：31

期　　号：3

起止页码：376-380

语　　种：中文

收录情况：BDHX、BDHX2008、CAS、CSCD、CSCD_E2011_2012、EI(收录号：20112514079160)、JST、RSC、SCOPUS、ZGKJHX、核心刊

摘　　要：采用分子动力学模拟方法研究了入射能量对SiF2与SiC样品表面相互作用的影响。本次模拟选择的入射初始能量分别为0.3,1,5,10和25 eV。模拟结果显示SiF2分解率与Si和F原子的沉积率有密切的关系。沉积的Si和F原子在SiC表面形成一层SixFy薄膜。随入射能量的增加,薄膜厚度先增加后减小,薄膜中Si-Si键密度增大。构成薄膜的主要成分SiFx（x=1-4）中主要是SiF和SiF2,随入射能量的增加,薄膜成分由SiF2向SiF转变。

关 键 词：分子动力学 分解率 沉积率  SixFy薄膜  

分 类 号：TN304.12]