期刊文章详细信息
国内外磁控溅射靶材的现状及发展趋势
The Present Status and Development Trend of Magnetron Sputtering Target at Home and Abroad
文献类型：期刊文章
机构地区：[1]湖南省冶金材料研究所,湖南长沙410014
基 金：湖南省科技厅工业科技计划重点项目;项目编号2009GK2006
年 份：2011
卷 号：39
期 号：4
起止页码：44-49
语 种：中文
收录情况：CAS、普通刊
摘 要：近年来,随着磁控溅射技术的应用日趋广泛,对各种高纯金属及合金靶材的需求也愈来愈大。据此,介绍了磁控溅射靶材的种类、应用及制备情况,指出了目前靶材亟待解决的几个重大问题,并对靶材的发展趋势进行了探讨和展望。
关 键 词：磁控溅射 靶材 现状 发展趋势
分 类 号：TN104.1]
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