文献类型：期刊文章

作　　者：刘桂林[1] 朱华新[1] 郭颖[1] 严慧敏[1] 李果华[1,2]

机构地区：[1]江南大学理学院,无锡214122 [2]江苏省(尚德)光伏技术研究院,无锡214028

出　　处：《人工晶体学报》

年　　份：2012

卷　　号：41

期　　号：6

起止页码：1549-1553

语　　种：中文

收录情况：BDHX、BDHX2011、CAS、CSCD、CSCD2011_2012、EI(收录号：20130515953717)、JST、SCOPUS、ZGKJHX、核心刊

摘　　要：使用光刻的方法进行ITO电极的制作,可制得精细的电极结构,本文重点阐述了使用光刻制备ITO电极的方法,包括表面清洗、曝光参量、显影条件、腐蚀工艺等,其中较为理想的ITO光刻工艺为:50 s曝光时间、30 s显影时间、20 s化学腐蚀时间。并用对腐蚀工艺条件进行了理论分析,并使用光学相干断层扫描(OCT)技术对制备的电极进行了测量。

关 键 词：ITO电极 光刻 化学腐蚀 光学相干断层扫描

分 类 号：TN27]