期刊文章详细信息
中高压电容器铝箔隧道孔初始生长速度和形貌
Growth velocity and pattern of initiation tunnels on DC etching of anodic aluminum foil for high voltage capacitors.
文献类型：期刊文章
机构地区：[1]四川大学,四川成都610065 [2]江苏中联科技集团,江苏通州226361
年 份：2001
卷 号：20
期 号：5
起止页码：20-21
语 种：中文
收录情况：BDHX、BDHX2000、CAS、CSCD、CSCD_E2011_2012、INSPEC、JST、RCCSE、ZGKJHX、核心刊
摘 要：研究了电解电容器用铝箔于混合酸中在直流电侵蚀条件下，初始隧道孔的生长速度和形貌。试验条件下侵蚀初期隧道孔的初始生长速度约为5.8 mm / s，隧道孔极限长度L是47~50 mm。
关 键 词：铝电解电容器 侵蚀 隧道孔 生长速度
分 类 号：TM535]
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