期刊文章详细信息
LED制作中快速退火气体流量对ITO薄膜的影响
文献类型：期刊文章
机构地区：[1]厦门市三安光电科技有限公司,厦门361009
年 份：2015
卷 号：23
期 号：9Z
起止页码：67-68
语 种：中文
收录情况：普通刊
摘 要：采用直流磁控溅射方法制备氧化铟锡(ITO)薄膜,分析快速退火中不同氮气流量表面形貌,分析ITO膜快速退火中不同氧气流量的XRD图谱,通入氧气0.3sccm的(222)晶面衍射峰最强。随着电流增加,退火时通氧气流量0.3sccm的ITO与外延层形成更好的欧姆接触,并且电流扩展最好,电压增加的幅度最小,制作到LED上亮度提高明显,器件的大电流驱动能力比较强。
关 键 词：氧化铟锡 磁控溅射 发光二极管 退火 气体流量
分 类 号：TN312.8]
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