文献类型：期刊文章

作　　者：张泽华[1] 赵青南[1,2] 刘翔[1] 李渊[1] 曾臻[1] 董玉红[2] 赵杰[2]

ZHANG Ze-hua;ZHAO Qing-nan;LIU Xiang;LI Yuan;ZENG Zhen;DONG Yu-hong;ZHAO Jie(State Key Laboratory of Silicate Materials for Architecture,Wuhan University of Technology,Wuhan 430070,China;Jiangsu Xiuqiang Glasswork Co.,Ltd.,Suqian 223800,China)

机构地区：[1]武汉理工大学硅酸盐建筑材料国家重点实验室,武汉430070 [2]江苏秀强玻璃工艺股份有限公司,宿迁223800

出　　处：《硅酸盐通报》

基　　金：国家十三五重点研发计划子课题(2016YFB0303903-04)

年　　份：2018

卷　　号：37

期　　号：9

起止页码：2759-2765

语　　种：中文

收录情况：BDHX、BDHX2017、CAS、CSCD、CSCD2017_2018、JST、RCCSE、ZGKJHX、核心刊

摘　　要：采用直流反应磁控溅射法在FTO玻璃基片上沉积了不同厚度的氧化镍(NiO)薄膜。用X射线衍射仪(XRD)、场发射扫描电子显微镜(SEM)、X射线光电子能谱仪(XPS)、台阶仪、紫外可见分光光度计、电化学工作站,研究了NiO薄膜厚度对其微观结构、形貌,以及电致变色性能的影响。结果表明,随着溅射时间增加,NiO薄膜厚度增加,试样的初始态可见光谱透过率逐渐降低,(200)晶面的XRD衍射峰强度逐渐增加;以1 M KOH溶液作为电解质,随着NiO薄膜厚度增加,薄膜电荷储存量逐渐增大。NiO薄膜厚度为920 nm的试样着色效率最高,达到了23.46 cm2/C;80 nm厚度的薄膜试样光学调制幅度最大,波长550 nm处为40.85%。薄膜越厚,着、褪色时间越长;所有试样着色时间均大于褪色时间,80 nm厚度的薄膜试样的着色、褪色时间最快,分别为4.47 s和2.28 s。

关 键 词：膜厚 NiO薄膜  电致变色 直流反应磁控溅射

分 类 号：TG146[材料类]