文献类型：期刊文章

作　　者：刘翔[1] 赵青南[1,2] 张泽华[1] 李渊[1] 曾臻[1,1] 董玉红[2] 赵杰[2]

LIU Xiang;ZHAO Qing-nan;ZHANG Ze-hua;LI Yuan;ZENG Zhen;DONG Yu-hong;ZHAO Jie(State Key Laboratory of Silicate Materials for Architecture,Wuhan University of Technology,Wuhan 430070,China;Jiangsu Xiuqiang Glasswork Co.Ltd.,Suqian 223800,China)

机构地区：[1]武汉理工大学硅酸盐建筑材料国家重点实验室,武汉430070 [2]江苏秀强玻璃工艺股份有限公司,宿迁223800

出　　处：《硅酸盐通报》

基　　金：国家“十三五”重点研发计划子课题(2016YFB0303903-04)。

年　　份：2018

卷　　号：37

期　　号：10

起止页码：3049-3053

语　　种：中文

收录情况：BDHX、BDHX2017、CAS、CSCD、CSCD2017_2018、JST、RCCSE、ZGKJHX、核心刊

摘　　要：用直流-射频磁控溅射镀膜工艺,在不同的溅射功率条件下,制备了玻璃/Si C/DLC(diamond-like carbon)薄膜。通过X射线衍射仪(XRD)、共焦显微拉曼光谱仪(Raman)、场发射扫描电子显微镜(SEM)、纳米显微硬度仪,研究了DLC薄膜的组织结构、物相组成、表面形貌、维氏硬度。结果表明,随着功率的增大,ID/IG值先增大后减小,薄膜硬度呈现先增大后减小的趋势;当溅射功率为200 W时,ID/IG值为0. 56,镀膜玻璃的硬度值最大(830HV),相比未镀膜的玻璃基片,硬度值增加了23. 88%。

关 键 词：DLC薄膜 硬度  磁控溅射功率  过渡层SiC  

分 类 号：TQ171]