文献类型：期刊文章

作　　者：赵智亮[1,2] 陈立华[2] 赵子嘉[1] 刘杰[2] 刘敏[1]

ZHAO Zhi-liang;CHEN Li-hua;ZHAO Zi-jia;LIU Jie;LIU Min(Chengdu Tyggo Photo-electricity Co. Ltd., Chengdu 610041, China;Chengdu Fine Optics Engineering Research Center, Chengdu 610041, China)

机构地区：[1]成都太科光电技术有限责任公司,四川成都610041 [2]成都精密光学工程研究中心,四川成都610041

出　　处：《光学精密工程》

基　　金：十三五国家重点研发计划重大科学仪器设备开发项目资助(No.2016YFF0101900)

年　　份：2018

卷　　号：26

期　　号：11

起止页码：2639-2646

语　　种：中文

收录情况：AJ、BDHX、BDHX2017、CAS、CSA、CSA-PROQEUST、CSCD、CSCD2017_2018、EI、IC、INSPEC、JST、RCCSE、SCOPUS、ZGKJHX、核心刊

摘　　要：采用635nm波长半导体可见光激光和10.5μm波长半导体红外激光作为干涉光源,设计了635nm和10.5μm双波段共光路透射式红外干涉仪,实现了可见光波段干涉测试与红外光波段干涉测试共光路,且双光路共用可见光对准。双波段共用机械式相移系统,并采用635nm测试光分段驻点标定10.5μm测试时相移器的长行程误差。研制的双波长红外干涉仪系统的红外测试精度达到PV优于0.05λ,RMS优于0.02λ,系统重复性RMS优于0.001λ。采用该干涉仪测试口径为400mm×400mm,离轴量为800mm的离轴非球面,得到边缘最大偏差值为21.9μm,能够实现大口径离轴非球面从粗磨到精磨高精度加工面形的全过程干涉测试。

关 键 词：光学检测 干涉测量  半导体双波长  红外干涉仪  离轴非球面

分 类 号：TH744.3]