文献类型：期刊文章

作　　者：李渊[1] 赵青南[1,2] 张泽华[1] 刘翔[1] 曾瑧[1] 董玉红[2]

LI Yuan;ZHAO Qing-nan;ZHANG Ze-hua;LIU Xiang;ZENG Zhen;DONG Yu-hong(State Key Laboratory of Silicate Materials for Architecture,Wuhan University of Technology,Wuhan 430070,China;Jiangsu Xiuqiang Glasswork Co.,Ltd.,Suqian 223800,China)

机构地区：[1]武汉理工大学硅酸盐建筑材料国家重点实验室,武汉430070 [2]江苏秀强玻璃工艺股份有限公司,宿迁223800

出　　处：《硅酸盐通报》

基　　金：产学研合作项目(20131h0467)

年　　份：2019

卷　　号：38

期　　号：2

起止页码：512-516

语　　种：中文

收录情况：BDHX、BDHX2017、CAS、JST、RCCSE、ZGKJHX、核心刊

摘　　要：采用射频磁控溅射法在非加热载玻片上制备WO_x薄膜。通过X射线衍射仪(XRD)、场发射扫描电子显微镜(SEM)、X射线光电子能谱仪(XPS)、台阶仪、UV-Vis-NIR3600型紫外可见分光光度计和接触角计,研究不同溅射功率下薄膜的物相结构、表面形貌、元素价态、膜厚、光学性能、光催化和亲水性能。结果表明,随着溅射功率增加,薄膜的光学带隙逐渐减小,薄膜光催化活性与亲水性均提高。180 W溅射功率沉积的薄膜放置在亚甲基蓝溶液里,然后用紫外灯照射210 min,亚甲基蓝降解率达到97%; WO_x薄膜在紫外灯下照射120 min时,水接触角达到12. 2°,停止照射之后放置在可见光下260 min,水接触角达到19. 1°。

关 键 词：WOx薄膜  射频磁控溅射功率  光催化  亲水性

分 类 号：TG146[材料类]