文献类型：期刊文章

作　　者：潘春荣[1] 刘云祥[1] 谢斌晖[2] 陈铭欣[2]

PAN Chunrong;LIU Yunxiang;XIE Binhui;CHEN Mingxin(School of Mechanical and Electrical Engineering,Jiangxi University of Science and Technology,Ganzhou 341000,China;Fujian Jingan Photoelectric Co Ltd,Quanzhou 362000,China)

机构地区：[1]江西理工大学机电工程学院,江西赣州341000 [2]福建晶安光电有限公司,福建泉州362000

出　　处：《传感器与微系统》

基　　金：国家自然科学基金资助项目(51665018)。

年　　份：2021

卷　　号：40

期　　号：1

起止页码：56-59

语　　种：中文

收录情况：BDHX、BDHX2020、CSCD、CSCD_E2021_2022、JST、RCCSE、ZGKJHX、核心刊

摘　　要：基于对单片衬底曝光场分布规律的研究,建立了曝光场分布优化的数学模型,推导出计算单片衬底曝光场数目及曝光场顶点坐标值的解析表达式;根据曝光场顶点与衬底中心点之间的关系,开发了优化衬底曝光场分布的算法;将该算法应用于实际曝光加工过程,结果表明:曝光场数量减少了近10%,提高了光刻机的生产效率。

关 键 词：图形化蓝宝石衬底  光刻工艺优化  生产效率

分 类 号：TN305.7]