期刊文章详细信息
涂胶曝光显影一体化设备研究
Technology of Integrated Equipment of Coater&Exposure&Developer
文献类型：期刊文章
LV Lei;ZHENG Ruyi;ZHOU Wenjing(The 45th Research Institute of CETC,Beijing 100176,China;Jinan Landong Laser Technology Co.,Ltd.,Jinan 250101,China)
机构地区：[1]中国电子科技集团公司第四十五研究所,北京100176 [2]济南蓝动激光技术有限公司,山东济南250101
年 份：2020
卷 号：49
期 号：6
起止页码：31-36
语 种：中文
收录情况：普通刊
摘 要：以光刻工艺为核心,介绍了匀胶曝光显影一体化设备,对设备的特点进行了分析,同时对设备的运行流程、结构布局、工作效率和电控及软件的实现进行了介绍,并提出了该设备今后优化的方向。
关 键 词：光刻 涂胶 曝光 显影
分 类 号：TN305]
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