文献类型：期刊文章

作　　者：王昊[1] 曹晓舟[1] 薛向欣[1]

Hao Wang;Xiao-Zhou Cao;Xiang-Xin Xue(Department of Resources and Environment,School of Metallurgy,Northeastern University,Shenyang 110819,Liaoning,China)

机构地区：[1]东北大学冶金学院资源与环境系,辽宁沈阳110819

出　　处：《电化学》

基　　金：国家自然科学基金项目(No.51204043)资助。

年　　份：2022

卷　　号：28

期　　号：4

起止页码：59-67

语　　种：中文

收录情况：BDHX、BDHX2020、CAS、CSCD、CSCD_E2021_2022、JST、ZGKJHX、核心刊

摘　　要：通过恒电位电沉积法在氯化胆碱-乙二醇(ChCl-EG)低共熔溶剂中成功制备了锑镀层。采用FTIR红外光谱和拉曼光谱分析了ChCl-EG低共熔溶剂内部的微观结构,采用循环伏安法研究了扫速、温度、浓度对Sb^(3+)在ChCl-EG中的伏安行为的影响以及电化学还原规律。同时,采用计时电流法研究了Sb(Ⅲ)在ChCl-EG中的电化学电结晶规律,采用SEM和XRD对电沉积产物进行表征。研究结果表明,ChCl-EG中存在大量氢键,并且Sb(Ⅲ)的加入不会破坏ChCl-EG原有的分子结构;温度升高和增大浓度时Sb的沉积所需的过电位减小;343 K时Sb在钨电极上的成核方式为三维瞬时成核,施加沉积电位是Sb(Ⅲ)发生电还原的主要驱动力,随着施加沉积电位的变化,电沉积产物的形貌发生变化。

关 键 词：电沉积 低共熔溶剂  氯化胆碱-乙二醇  锑 循环伏安

分 类 号：TQ153]