文献类型：期刊文章

作　　者：谢茂彬[1,3,4,5] 吴智勇[1,2,3] 崔恒毅[1,3,4,5] 赵新潮[1,3,4,5] 玄志一[1,4,5,6] 刘清权[1,4,5,6] 刘锋[2] 孙聊新[1,3,5] 王少伟[1,3,4,5,7]

XIE Mao-Bin;WU Zhi-Yong;CUI Heng-Yi;ZHAO Xin-Chao;XUAN Zhi-Yi;LIU Qing-Quan;LIU Feng;SUN Liao-Xin;WANG Shao-Wei(State Key Laboratory of Infrared Physics,Shanghai Institute of Technical Physics,Chinese Academy of Sciences,Shanghai 200083,China;Department of Physics,Shanghai Normal University,Shanghai 200234,China;Shanghai Engineering Research Center of Energy-Saving Coatings,Shanghai 200083,China;Shanghai Research Center for Quantum Sciences,Shanghai 201315,China;University of Chinese Academy of Sciences,Beijing 100049,China;School of Physical Science and Technology,ShanghaiTech University,Shanghai 201210,China;Nantong Academy of Intelligent Sensing,Nantong 226000,China)

机构地区：[1]中国科学院上海技术物理研究所红外物理国家重点实验室,上海200083 [2]上海师范大学物理系,上海200234 [3]上海节能镀膜玻璃工程技术研究中心,上海200083 [4]上海量子科学研究中心,上海201315 [5]中国科学院大学,北京100049 [6]上海科技大学物质科学与技术学院,上海201210 [7]南通智能传感研究院,江苏南通226000

出　　处：《红外与毫米波学报》

基　　金：fumded by Natuonal key R&D Program of China(2021YFA07115500);National Notural Science Foundation of China(11874376)。

年　　份：2022

卷　　号：41

期　　号：5

起止页码：888-893

语　　种：中文

收录情况：AJ、BDHX、BDHX2020、CAS、CSCD、CSCD2021_2022、EI、IC、JST、RCCSE、SCIE、SCOPUS、WOS、ZGKJHX、核心刊

摘　　要：薄膜的光学常数(折射率和消光系数)精度直接影响设计和制造的光学器件的性能。大多数光学常数的测定方法较为复杂,不能直接应用在镀膜过程中。提出了一种薄膜光学常数原位实时测量的方法,通过监测沉积材料的透射率可以快速准确地测量光学常数。测量了高吸收材料Si、低吸收材料Ta_(2)O_(5)和超低吸收材料SiO_(2)的近红外光学常数,用这种方法测得光学常数分别为n=3.22,k=4.6×10^(-3),n=2.06,k=1.3×10^(-3)和n=1.46,k=6.6×10^(-5)。该方法适用于强吸收材料和弱吸收材料光学常数的测定,为在线精确测量薄膜的光学常数提供了一种有效的方法,对设计和制造高质量的光学器件具有重要意义。

关 键 词：光学常数 近红外 薄膜  原位 测定  

分 类 号：O484.41]