期刊文章详细信息
多片平板硅外延机台均匀性提升研究
文献类型：期刊文章
机构地区：[1]上海新傲科技股份有限公司,上海201815
年 份：2024
期 号：13
起止页码：68-72
语 种：中文
收录情况：普通刊
摘 要：论述了多片平板硅外延机台影响外延层均匀性的因素,通过试验验证影响因素,得出了控制这些因素的方法及条件。
关 键 词：多片平板外延机台 炉内均匀性 旋转控制系统
分 类 号：TN305]
参考文献：
正在载入数据...
二级参考文献：
正在载入数据...
耦合文献：
正在载入数据...
引证文献：
正在载入数据...
二级引证文献：
正在载入数据...
同被引文献：
正在载入数据...
