文献类型：期刊文章

作　　者：姜雁斌[1] 黄承智[1] 李周[1] 刘新华[2] 娄花芬[3] 肖柱[1] 刘峰[4] 莫永达[3] 张嘉凝[3]

JIANG Yanbin;HUANG Chengzhi;LI Zhou;LIU Xinhua;LOU Huafen;XIAO Zhu;LIU Feng;MO Yong-da;ZHANG Jianing(School of Materials Science and Engineering,Central South University,Changsha 410083,China;Key Laboratory of Advanced Material Preparation Technology,Ministry of Education,University of Science and Technology Beijing,Beijing 100083,China;China Aluminum Science and Technology Research Institute Co.Beijing 102209,China;Provincial Engineering Research Center for High Performance Copper-based New Materials,Ningbo Xingye Shengtai Group Co.,Ningbo 315336,China)

机构地区：[1]中南大学材料科学与工程学院,湖南长沙410083 [2]北京科技大学新材料技术研究院材料先进制备技术教育部重点实验室,北京100083 [3]中铝科学技术研究院有限公司,北京102209 [4]宁波兴业盛泰集团有限公司高性能铜基新材料省工程研究中心,浙江宁波315336

出　　处：《铜业工程》

基　　金：国家重点研发计划项目(2021YFB3803103);国家自然科学基金项目(U2202255,51925401);湖南省科技创新领军人才项目(2023RC1019)资助。

年　　份：2024

期　　号：3

起止页码：131-144

语　　种：中文

收录情况：AJ、CAS、UPD、普通刊

摘　　要：中国电子信息产业发展迅速,集成电路已成为国民经济建设的重要基础产业之一。本文综述了集成电路引线框架用铜合金的发展现状,梳理了引线框架用Cu-Fe-P, Cu-Cr-Zr, Cu-Ni-Si等合金体系的特性及多元微合金化对铜合金组织和性能的影响,阐述了引线框架用铜合金带材的制备加工方法,介绍了以水平连铸为核心的短流程生产新工艺的特点,并展望了中国集成电路引线框架用铜合金的发展前景和方向。

关 键 词：集成电路 引线框架 铜合金 制备技术  发展趋势  

分 类 号：TG146.11[材料类]