文献类型：期刊文章

作　　者：赵智炎[1,2] 冯昱森[2] 罗子艺[1] 蔡得涛[1] 薛亚飞[1] 王忠强[3] 于颜豪[2]

Zhao Zhiyan;Feng Yusen;Luo Ziyi;Cai Detao;Xue Yafei;Wang Zhongqiang;Yu Yanhao(China-Ukraine Institute of Welding,Guangdong Academy of Sciences,Guangdong Provincial Key Laboratory of Advanced Welding Technology,Guangzhou 510650,Guangdong,China;State Key Laboratory of Integrated Optoelectronics,College of Electronic Science and Engineering,Jilin University,Changchun 130012,Jilin,China;Dongguan Institute of Opto-Electronics Peking University,Dongguan 523808,Guangdong,China)

机构地区：[1]广东省科学院中乌焊接研究所,广东省现代焊接技术重点实验室,广东广州510650 [2]吉林大学电子科学与工程学院集成光电子学国家重点实验室,吉林长春130012 [3]北京大学东莞光电研究院,广东东莞523808

出　　处：《中国激光》

基　　金：广东省基础与应用基础研究基金(2019B1515120081);广东省科学院发展专项资金项目(2023GDASZH-2023010105,2021GDASYL-20210103085);吉林省科技发展计划项目重大科技专项(20220301003GX)。

年　　份：2024

卷　　号：51

期　　号：16

起止页码：147-154

语　　种：中文

收录情况：BDHX、BDHX2023、CAS、CSCD、CSCD2023_2024、EAPJ、EI、INSPEC、JST、RCCSE、SCOPUS、WOS、ZGKJHX、核心刊

摘　　要：金刚石作为一种具有独特优异性能的半导体材料,在光学和电子学领域具有重要的应用价值。目前生长金刚石最常用的方法是化学气相沉积(CVD)法,采用该方法制备的金刚石薄膜通常为多晶结构,表面粗糙度高、颗粒大的缺点制约了金刚石薄膜的应用。笔者提出了飞秒-纳秒-离子束刻蚀的复合抛光方法并采用该方法对CVD金刚石薄膜进行抛光。结果表明:经飞秒-纳秒激光刻蚀后,金刚石表面粗糙度降低得十分明显,由未刻蚀时的4μm降至0.5μm左右,但表面出现了明显的石墨化现象;进一步采用离子束刻蚀去除表面的石墨层,最低可将表面粗糙度降至0.47μm。所提方法实现了金刚石表面的无改性平滑抛光,为金刚石表面微纳器件的发展奠定了基础。

关 键 词：超快激光 金刚石薄膜 激光抛光  离子束刻蚀 粗糙度

分 类 号：TN249]