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苏州纳维科技有限公司 收藏

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研究主题:衬底    氮化镓    半导体材料    氮化物    外延层    

研究学科:电子信息类    机械类    经济学类    自动化类    

被引量:7H指数:2北大核心: 9 CSCD: 2

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156 条 记 录,以下是 1-10

氧化铟锡与掺Fe半绝缘GaN的接触特性
1
《半导体技术》中国科学技术大学纳米技术与纳米仿生学院;中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所纳米光子材料与器件重点实验室;苏州纳维科技有限公司 卫新发 梁国松 张育民 王建峰 徐科  出版年:2021
国家重点研发计划资助项目(2017YFB0404101)。
氧化铟锡(ITO)透明电极能够有效提高GaN光导半导体开关的光吸收效率和电场均匀性,但如何在透明电极ITO与半绝缘GaN之间实现良好的欧姆接触是一个难题。通过在ITO和半绝缘GaN之间插入与GaN功函数相近的Ti薄层,并...
关键词:掺Fe GaN  氧化铟锡(ITO)  Ti薄层  欧姆接触  热稳定性  光导半导体开关
氨热法GaN单晶生长的位错密度演变研究
2
《人工晶体学报》中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所;中国科学技术大学纳米科学与技术学院;苏州纳维科技有限公司;江苏第三代半导体研究院 夏政辉 李腾坤 任国强 解凯贺 卢文浩 李韶哲 郑树楠 高晓冬 徐科  出版年:2024
国家重点研发计划(2021YFB3602000,2022YFB3605202);国家自然科学基金(62074157,62104246);江苏省重点研发计划(BE2021008)。
氮化镓单晶具有高击穿电压、直接带隙、高饱和电子漂移速率、良好的化学稳定性等特性,在光电子器件和大功率电子器件中有广泛的应用。然而异质外延氮化镓会产生高位错密度,限制了氮化镓基器件的性能发挥。本研究以HVPE-GaN为籽晶...
关键词:氮化镓单晶  氨热法  侧向生长  位错密度 腐蚀坑
GaN单晶衬底上同质外延界面杂质的研究
3
《人工晶体学报》中国科学技术大学纳米技术与纳米仿生学院;中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所;上海科技大学物质科学与技术学院;苏州纳维科技有限公司;中国科学院纳米光子材料与器件重点实验室 邵凯恒 夏嵩渊 张育民 王建峰 徐科  出版年:2021
国家重点研发计划(2017YFB0404101,2017YFB0403000);国家自然科学基金(61704187);中国科学院前沿科学重点研究计划(QYZDB-SSW-SLH042)。
氮化镓单晶衬底上的同质外延具有显著的优势,但是二次生长界面上的杂质聚集一直是困扰同质外延广泛应用的难题,特别是对电子器件会带来沟道效应,对激光器应用会影响谐振腔中的光场分布。本文通过金属有机化合物化学气相沉积(MOCVD...
关键词:氮化镓衬底  二次生长界面  界面杂质  杂质来源  同质外延  Si聚集  
Micro-LED的侧壁损伤以及光学特性
4
《人工晶体学报》苏州大学光电科学与工程学院&苏州纳米科技协同创新中心;苏州大学;中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所;苏州纳维科技有限公司;沈阳材料科学国家研究中心 蔡鑫 徐俞 曹冰 徐科  出版年:2023
国家自然科学基金重点项目(61734008);江苏省重点研发计划(BE2021008-3)。
GaN基微型发光二极管(Micro-LED)作为新型显示技术有着广泛的应用前景,在近些年得到了快速的发展。但随着尺寸的降低,Micro-LED的发光效率急剧降低,主要是由于侧壁损伤的影响。本文通过光刻工艺和电感耦合等离子...
关键词:Micro-LED  侧壁损伤  侧壁钝化  尺寸 光学特性
尾气中镓源回收装置、尾气处理装置及HVPE反应器
5
[发明专利] 苏州纳维科技有限公司 20210721徐琳 蔡德敏 金超  出版年:2023
本发明属于半导体材料技术领域。本发明公开了一种尾气中镓源回收装置,回收装置包括腔体及设于腔体内的回收容器;腔体内壁顶面为弧形;回收装置内部的温度为300‑800℃;本发明还公开了一种尾气处理装置及HVPE反应器。HVPE...
一种闸板阀
6
[发明专利] 苏州纳维科技有限公司 20120702徐俞 张纪才 徐琳 王建峰 徐科  出版年:2012
本发明提供一种闸板阀,包括一闸板,还包括内壳和盖板,所述闸板包括水嘴、连杆和方板;所述方板两端分别固接一连杆,两根连杆另一端分别设有所述水嘴;所述方板上设有一通孔;所述方板与连杆为中空结构,且两者的中空结构相连通;所述闸...
一种硅基图形衬底上生长外延层的方法
7
[发明专利] 苏州纳维科技有限公司 20080919朱建军 徐科 王建峰  出版年:2009
一种硅基图形衬底上生长外延层的方法,包括如下步骤:提供硅衬底;在硅衬底表面生长第一外延层;在第一外延层远离硅衬底的表面生长第一介质层;将第一介质层的一部分腐蚀除去;刻蚀第一外延层,至露出硅衬底后停止;在硅衬底上形成凹陷结...
一种III-V族半导体单晶衬底孔洞消除之后的表面结构及其制备方法
8
[发明专利] 苏州纳维科技有限公司 20150625张育民 王建峰 徐科  出版年:2015
本发明涉及了一种III-V族半导体单晶衬底孔洞消除之后的表面结构及其制备方法,利用半导体材料在不同材料上的形核功不同,借助于简单的镀膜工艺和湿法刻蚀工艺,消除了半导体材料表面的孔洞,形成了表面平整、但保留晕状结构的III...
晶体参考面加工用X射线定向夹具和定向方法
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[发明专利] 苏州纳维科技有限公司 20161230徐俞 王建峰 徐科  出版年:2017
本申请公开了一种晶体参考面加工用X射线定向夹具和定向方法,该晶体参考面加工用X射线定向夹具,包括:可控倾斜台,具有一支撑面,该支撑面相对水平面的倾斜角度可调;夹具底板,固定于所述支撑面上;夹具顶板,与所述夹具底板上下设置...
多组分物料化学反应辅助装置
10
[实用新型] 苏州纳维科技有限公司 20240620刘俊杰  出版年:2025
本实用新型公开了一种多组分物料化学反应辅助装置。多组分物料化学反应辅助装置包括:反应容器,具有可密封的反应腔室;反应气体输入机构,与所述反应腔室连通,用于向所述反应腔室内输入反应气体;物料承载机构,设置在所述反应腔室内,...
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